0102030405
Aluminiumoxid-Ziel: Anwendung in zahlreichen hochmodernen Fertigungsbereichen
Filmeigenschaften
Hohe Isolationsfähigkeit: Der hergestellte Aluminiumoxidfilm weist einen extrem hohen spezifischen Widerstand (>10¹⁴ Ω·cm) und eine hohe Durchschlagsfestigkeit (~10 MV/cm) auf, was ihn zu einem idealen Material für Isolations- und dielektrische Schichten macht.
Hohe Härte und Verschleißfestigkeit: Die extrem hohe Härte des Films (9 auf der Mohs-Skala, nur Diamant ist härter) kann die Kratz- und Verschleißfestigkeit der Geräteoberfläche deutlich verbessern.
Ausgezeichnete chemische Stabilität: Äußerst beständig gegen die meisten Säuren, Laugen und Lösungsmittel, mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit und Stabilität bei hohen Temperaturen.
Sputter- und Filmbildungseigenschaften
Hohe Reinheit und Konsistenz: Ultrahohe Reinheit (≥99,9%) und strenge Zusammensetzungskontrolle gewährleisten eine stabile Filmleistung und vermeiden elektrische oder optische Defekte, die durch die Einbringung von Verunreinigungen verursacht werden.
Dichte und gleichmäßige Filmbildung: Eine hohe Zieldichte (≥3,6 g/cm³) und eine einheitliche Korngröße ermöglichen die Abscheidung hochwertiger Filme mit wenigen Defekten und guter Dickengleichmäßigkeit (Inhomogenität ≤5%).
Prozessstabilität: Die Keramikstruktur ist stabil, neigt nicht zu Rissbildung oder Pulververlust bei Langzeit-Sputtern und weist eine lange Lebensdauer auf.
Ausgezeichnete thermische Stabilität: Der Schmelzpunkt ist extrem hoch (2054°C), und die hergestellten Filme können in Hochtemperaturumgebungen ohne Degradation eingesetzt werden.
Breites Gaskompatibilitätsfenster: Sputtern in Inertgas (Ar), reaktivem Gas (O₂) oder Mischgasumgebungen mit einem breiten Prozessfenster.
Gute Haftung: Haftet gut auf einer breiten Palette von Substraten (Siliziumwafern, Glas, Metallen usw.) und kann als Funktions- oder Schutzschicht verwendet werden.
Beschreibung2
Halbleiter und Mikroelektronik
Gate-Dielektrikumsschicht: Dient als Gate-Isolationsschicht für MOSFET-Bauelemente oder wird in High-κ-Medien/Metall-Gate-Stapelstrukturen verwendet.
Passivierungsschicht für integrierte Schaltungen: Auf der Chipoberfläche wird ein Al₂O₃-Film abgeschieden, um die interne Schaltung vor Wasserdampf und ionischer Verunreinigung aus der Umgebung zu schützen.
Dielektrikum für Folienkondensatoren: Wird zur Herstellung von MIM-Kondensatoren (Metall-Isolator-Metall) mit hoher Kapazität und hoher Stabilität verwendet.
Optik und Optoelektronik
Antireflexbeschichtungen: Einzelne oder mehrere Antireflexionsschichten werden mit dem entsprechenden Brechungsindex auf Gläser, Kameraobjektive und Bildschirme aufgebracht.
Optische Schutzschicht: Wird als Schutzfilm, der abrieb- und korrosionsbeständig ist, auf die Oberfläche optischer Bauteile wie Laserspiegel und Infrarotfenster aufgebracht.
Optoelektronische Geräte: Als Verpackungsbarriere für OLED-Displays, Solarzellen und andere Geräte verhindert es wirksam das Eindringen von Wasser und Sauerstoff und verlängert die Lebensdauer des Geräts.
Verschleißfeste und schützende Beschichtung
Werkzeug- und Formenbeschichtung: Auf die Oberfläche von Schneidwerkzeugen und Stanzwerkzeugen wird eine Al₂O₃-Beschichtung aufgebracht, wodurch deren Verschleißfestigkeit, thermische Stabilität und Lebensdauer erheblich verbessert werden.
Luft- und Raumfahrt sowie Automobilindustrie: Bietet Schutz vor Oxidation und Korrosion bei hohen Temperaturen für kritische Bauteile wie Triebwerkskomponenten und Turbinenschaufeln.
Biomedizinische Geräte: Funktionelle Beschichtungen für Oberflächen wie künstliche Gelenke, chirurgische Instrumente usw., die abriebfeste, korrosionsbeständige und bioinerte Oberflächen bieten.
Andere zukunftsweisende Bereiche
Magnetische Aufzeichnungsspeicherung: Wird in Festplatten als Schutz- und Isolierschicht für den Lesekopf verwendet.
Sensor: Dient als Isolier- oder Schutzschicht in MEMS-Sensoren.
Korrosionsschutz: Bietet lang anhaltenden Korrosionsschutz für metallische Substrate (wie Edelstahl und Aluminiumlegierungen).
Beschreibung2
