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MoSi-Legierungstarget: ausgezeichnete Filmgleichmäßigkeit
Filmeigenschaften
Niedriger spezifischer Widerstand: MoSi-Filme weisen einen niedrigen spezifischen Widerstand auf und eignen sich daher für die Anforderungen an eine leistungsstarke leitfähige Schicht.
Hochtemperaturstabilität: Es behält seine strukturelle Stabilität auch bei hohen Temperaturen, weist eine hohe Oxidationsbeständigkeit auf und behält seine Leistungsfähigkeit bei Hochtemperaturprozessen.
Haftung: Starke Bindung mit Substraten wie Silizium, Glas und Oxiden, geeignet als Übergangs- oder Funktionsschicht.
Niedriger spezifischer Widerstand: MoSi-Filme weisen einen niedrigen spezifischen Widerstand auf und eignen sich daher für die Anforderungen an eine leistungsstarke leitfähige Schicht.
Hochtemperaturstabilität: Es behält seine strukturelle Stabilität auch bei hohen Temperaturen, weist eine hohe Oxidationsbeständigkeit auf und behält seine Leistungsfähigkeit bei Hochtemperaturprozessen.
Gute Haftung: Starke Bindung mit Substraten wie Silizium, Glas und Oxiden, geeignet als Übergangs- oder Funktionsschicht.
Chemische und funktionelle Kompatibilität
Oxidations- und Korrosionsbeständigkeit: Bildet in heißer Luft eine dichte SiO₂-Schutzschicht auf der Oberfläche und verhindert so eine weitere Oxidation.
Ätzleistung: Kompatibel mit gängigen Lithographieverfahren, sowohl Trocken- als auch Nassätzung ermöglichen hochpräzise Grafiken.
Anpassbarer Siliziumgehalt: Durch die Anpassung des Mo/Si-Verhältnisses kann es an die elektrischen und optischen Anforderungen verschiedener Anwendungsszenarien angepasst werden.
Beschreibung2
Halbleiter und Mikroelektronik
Gate- und Verbindungsmaterialien: Werden für Gate-Elektroden und lokale Verbindungsschichten in integrierten Schaltungen verwendet, insbesondere für Hochtemperaturprozesse.
Diffusionsbarriereschicht: Blockiert effektiv die Diffusion von Metallatomen und verbessert so die Zuverlässigkeit und Lebensdauer des Bauelements.
Effiziente Sputterleistung
Niedriger spezifischer Widerstand: MoSi-Filme weisen einen niedrigen spezifischen Widerstand auf und eignen sich daher für die Anforderungen an eine leistungsstarke leitfähige Schicht.
Hochtemperaturstabilität: Es behält seine strukturelle Stabilität auch bei hohen Temperaturen, weist eine hohe Oxidationsbeständigkeit auf und behält seine Leistungsfähigkeit bei Hochtemperaturprozessen.
Gute Haftung: Starke Bindung mit Substraten wie Silizium, Glas und Oxiden, geeignet als Übergangs- oder Funktionsschicht.
Chemische und funktionelle Kompatibilität
Oxidations- und Korrosionsbeständigkeit: Bildet in heißer Luft eine dichte SiO₂-Schutzschicht auf der Oberfläche und verhindert so eine weitere Oxidation.
Ätzleistung: Kompatibel mit gängigen Lithographieverfahren, sowohl Trocken- als auch Nassätzung ermöglichen hochpräzise Grafiken.
Anpassbarer Siliziumgehalt: Durch die Anpassung des Mo/Si-Verhältnisses kann es an die elektrischen und optischen Anforderungen verschiedener Anwendungsszenarien angepasst werden.
Beschreibung2
