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Cible en alliage MoSi : excellente uniformité du film
Propriétés cinématographiques
Faible résistivité : les films de MoSi présentent une faible résistivité, ce qui les rend adaptés aux exigences des couches conductrices hautes performances.
Stabilité à haute température : Il peut maintenir sa stabilité structurelle dans des environnements à haute température, avec une forte résistance à l'oxydation, et peut maintenir ses performances dans les processus à haute température.
Adhésion : Forte adhésion aux substrats tels que le silicium, le verre et les oxydes, convenant comme couche de transition ou fonctionnelle.
Faible résistivité : les films de MoSi présentent une faible résistivité, ce qui les rend adaptés aux exigences des couches conductrices hautes performances.
Stabilité à haute température : Il peut maintenir sa stabilité structurelle dans des environnements à haute température, avec une forte résistance à l'oxydation, et peut maintenir ses performances dans les processus à haute température.
Bonne adhérence : Forte liaison avec des substrats tels que le silicium, le verre et les oxydes, convenant comme couche de transition ou fonctionnelle.
Compatibilité chimique et fonctionnelle
Résistance à l'oxydation et à la corrosion : Forme une couche protectrice dense de SiO₂ à la surface dans l'air à haute température, empêchant toute oxydation ultérieure.
Performances de gravure : Compatible avec les procédés de lithographie courants, la gravure sèche et humide permet d’obtenir des graphismes de haute précision.
Teneur en silicium ajustable : en ajustant le rapport Mo/Si, il peut s’adapter aux exigences électriques et optiques de différents scénarios d’application.
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Semiconducteurs et microélectronique
Matériaux de grille et d'interconnexion : utilisés pour les électrodes de grille et les couches d'interconnexion locales dans les circuits intégrés, notamment pour les procédés à haute température.
Couche barrière de diffusion : bloque efficacement la diffusion des atomes métalliques, améliorant ainsi la fiabilité et la durée de vie du dispositif.
Performances de pulvérisation efficaces
Faible résistivité : les films de MoSi présentent une faible résistivité, ce qui les rend adaptés aux exigences des couches conductrices hautes performances.
Stabilité à haute température : Il peut maintenir sa stabilité structurelle dans des environnements à haute température, avec une forte résistance à l'oxydation, et peut maintenir ses performances dans les processus à haute température.
Bonne adhérence : Forte liaison avec des substrats tels que le silicium, le verre et les oxydes, convenant comme couche de transition ou fonctionnelle.
Compatibilité chimique et fonctionnelle
Résistance à l'oxydation et à la corrosion : Forme une couche protectrice dense de SiO₂ à la surface dans l'air à haute température, empêchant toute oxydation ultérieure.
Performances de gravure : Compatible avec les procédés de lithographie courants, la gravure sèche et humide permet d’obtenir des graphismes de haute précision.
Teneur en silicium ajustable : en ajustant le rapport Mo/Si, il peut s’adapter aux exigences électriques et optiques de différents scénarios d’application.
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