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Target Cr da 300 mm ad alta purezza per applicazioni di precisione

I target di cromo hanno le stesse proprietà del cromo metallico (Cr). Il target di cromo è un metallo di transizione grigio acciaio, lucido, duro e fragile. Nel vuoto, i target di cromo possono produrre fasci di ioni di cromo relativamente stabili, il che consente loro di essere utilizzati per realizzare substrati o rivestimenti superficiali per proteggere i substrati o per realizzare componenti industriali che richiedono un'elevata resistenza all'ossidazione. I target di cromo possono anche essere utilizzati per preparare studi stechiometrici di composti di cromo.

    Caratteristiche

    Proprietà del film

    Forte adesione: la pellicola di cromo ha un forte legame con substrati di vetro, metallo e polimeri, il che la rende un materiale ideale per lo strato di adesione.

    Durezza e resistenza all'usura: la durezza della pellicola può raggiungere 800-1000 HV, il che migliora notevolmente la resistenza ai graffi della superficie del dispositivo.

    Resistenza alla corrosione: stabile in ambienti umidi, con nebbia salina e acidi, ampiamente utilizzato nei rivestimenti protettivi;

    Prestazioni di sputtering efficienti

    Elevata velocità di sputtering: elevata densità (≥7,2 g/cm³) e basso contenuto di ossigeno (≤500 ppm) migliorano l'efficienza di deposizione;

    Formazione di un film uniforme e denso: la granulometria è piccola (≤30μm) e lo spessore del film è distribuito in modo non uniforme ≤5%, il che è adatto per rivestire substrati di grandi dimensioni;

    Difetti di particelle ridotti: l'altissima purezza (≥99,95%) riduce la contaminazione da particelle durante lo sputtering.

    Compatibilità tra chimica e tecnologia

    Resistenza all'ossidazione: forma uno strato denso di passivazione Cr₂O₃ nell'aria per proteggere il materiale sottostante;

    Capacità di deposizione a bassa temperatura: può formare una pellicola a una bassa temperatura di ≤150°C, compatibile con substrati sensibili al calore come la plastica;

    Eccellenti caratteristiche di incisione: elevata selettività con incisione fotoresistente, processo grafico semplice;

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    Applicazione

    Tecnologia dei semiconduttori e dei display

    Strato metallizzato: utilizzato come strato barriera alla diffusione per l'interconnessione in rame (ad esempio la pila Cu/Cr) per inibire la migrazione degli atomi di rame;

    Pannello di visualizzazione: rivestimento della linea di gate/segnale in TFT-LCD per migliorare la conduttività e l'adesione;

    Fotomaschera: la pellicola di cromo viene utilizzata come strato di blocco della luce della maschera fotoresistente e la precisione grafica raggiunge il livello sub-micron.

    Rivestimenti funzionali e protettivi

    Rivestimento resistente all'usura: placcatura in cromo sulla superficie di utensili e stampi per prolungarne la durata (ad esempio stampi a iniezione, utensili da taglio);

    Rivestimento anticorrosione: protezione superficiale di componenti di automobili e navi, in sostituzione della tradizionale cromatura galvanica;

    Aerospaziale: Rivestimento resistente all'ossidazione ad alta temperatura per componenti del motore (temperatura di esercizio ≤ 700°C);

    Ottica e decorazione

    Rivestimento ottico: lo strato inferiore della pellicola antiriflesso degli obiettivi delle fotocamere e delle lenti AR (per migliorare l'adesione dello strato di pellicola);

    Placcatura decorativa: decorazione superficiale di gioielli e accessori per il bagno (cromatura opaca, cromatura lucida e altri effetti diversificati);

    Celle solari: materiali dell'elettrodo posteriore per celle solari a film sottile (come le celle CIGS);

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    Obiettivo Cr

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