碳化硼靶材：專用於物理氣相沉積
電影特性
碳化硼薄膜的硬度可達30-40 GPa（約3000-4000 HV），是已知最硬的材料之一，顯著提高了裝置表面的耐磨性和抗刮擦性。它具有極高的耐酸鹼腐蝕性能，尤其是在高溫下仍能保持良好的化學惰性。此材料密度低（約2.52 g/cm³），但楊氏模量極高，因此適用於對重量要求較高的輕量化防護應用。
高效率濺鍍性能
透過熱壓（HP）或熱等靜壓（HIP）可獲得高密度（≥98%理論密度）靶材，進而減少濺鍍過程中的顆粒飛濺和裂縫。雖然其導電性相對較差（需要射頻濺鍍），但此製程成熟，能夠製備出附著力良好的均勻薄膜。
特殊功能特性
硼元素具有極高的熱中子吸收截面（600靶恩），是核反應器控制棒和屏蔽材料的理想選擇。其熔點高達2450℃，在高溫環境下仍能維持結構穩定性與性能。此外，硼的熱膨脹係數低，使其能夠承受劇烈的溫度變化而不開裂。
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核工業與輻射防護
中子吸收層：用於核反應器控制棒、屏蔽部件及其他關鍵部件的塗層，有效吸收熱中子，確保核安全。
防護包層：為核燃料或核廢料儲存設施提供中子防護塗層。
超硬耐磨保護塗層
刀具塗層：在切削刀具、鑽頭和模具（如拉拔模具）表面塗覆塗層，顯著提高其耐磨性和加工精度。
關鍵零件保護：用於航空引擎零件、燃氣渦輪葉片、軸承等，提供高溫耐磨性和防腐蝕保護。
特殊職能及研發領域半導體製程組件：用於半導體蝕刻製程中噴嘴和夾具等易損件的塗層，利用其抗等離子體侵蝕和低污染的特性。
熱電材料：高純度 B₄C 是一種很有前景的高溫熱電轉換材料，可用於能量收集和感測器。
前沿研究與開發：作為量子技術和超硬複合薄膜等前沿領域的關鍵材料進行研究。
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