高純度鎢靶 300mm W 靶
特徵
優異的成膜品質和穩定性
形成的薄膜具有極高的熱穩定性和化學惰性，耐高溫氧化，可在超過 1000°C 的溫度下運作；
薄膜層緻密均勻，附著力強，與各種基材（如矽、玻璃、陶瓷等）相容，不易剝落；
它具有低電阻率和良好的導熱性，使其適用於高功率和高頻電子設備。
高效率的塗層製程性能
濺鍍速率高，製程重複性好，目標材料利用率高，使其適用於大規模連續生產；
晶粒尺寸小且均勻（通常控制在 10–40μm 之間），表面粗糙度低，缺陷少；
在直流磁控濺鍍和高功率脈衝磁控濺鍍等製程中表現出良好的穩定性和沈積一致性。
廣泛的環境和工藝適應性
耐酸鹼腐蝕，在大多數濕法和等離子製程中性能穩定；
支援低溫沉積（可低於 200°C），適用於熱敏功能元件和柔性基板；
與光刻製程（如光刻、蝕刻、CMP）相容，可滿足半導體製造的多步驟整合需求。
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應用
半導體和微電子
阻擋層和黏合層：銅互連技術中的擴散阻擋層（例如 W/TiW 合金）可防止銅遷移。
閘極和接觸孔填充：用作先進邏輯和儲存晶片中的局部互連和接觸孔材料。
高溫防護塗層
高溫零件保護：用於航空發動機和燃氣渦輪葉片等高溫部件的防腐蝕和抗氧化塗層。
模具強化：切削刀具和壓鑄模具的表面塗層顯著提高了耐磨性和使用壽命。
顯示器和光學器件
薄膜電晶體（TFT）電極：用於高解析度LCD/OLED顯示面板的閘極和訊號線。
X射線靶和光學掩模：用作醫學成像和光刻系統中的高能量射線阻擋層和圖案轉移層。
新能源與感測器
光伏電池電極：薄膜太陽能電池（如 CIGS 電池）的背電極和透明導電層。
MEMS 和感測器結構層：用於微機械系統中的導電和結構薄膜，例如壓力感測器和加速度計。
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