氧化鋅靶材：優異的薄膜性能

薄膜特性

高透光率和導電性：在可見光範圍內具有高透光率，電阻率可透過摻雜進一步降低，適用於透明電極。

結晶度：可以製備具有 c 軸擇優取向的高品質薄膜，這有利於壓電和光電性能。

低溫成膜能力：可在較低溫度（甚至室溫）下沉積，適用於柔性基板和溫度敏感元件。

濺鍍性能

高濺鍍速率和穩定性：高密度和高純度保證了穩定的濺鍍過程和較高的成膜速率。

均勻性和一致性：細小均勻的顆粒（通常≤10μm）能夠在大面積上形成均勻的薄膜。

缺陷與污染少：微觀結構緻密，濺鍍過程中產生的顆粒較少，有利於提高元件良率。

化學與功能多樣性

摻雜靈活性：可透過摻雜 Al 和 Ga 等元素來調節電性能，從而實現 n 型導電性。

壓電和熱電特性：它具有良好的壓電係數和熱電響應，使其適用於感測器和能量收集裝置。

化學穩定性：在室溫下化學性質穩定，耐濕、耐氧化，適用於各種製程環境。

光電子和顯示技術

透明導電薄膜：用作觸控螢幕、液晶顯示器（LCD）、有機發光二極體（OLED）等的透明電極（作為ITO的替代品）。

太陽能電池：用作薄膜太陽能電池（如 CIGS 和鈣鈦礦電池）中的窗口層或緩衝層。

感測器和壓電裝置

氣體感測器：對各種氣體（如 H₂、NO₂、乙醇等）有靈敏的反應，用於環境監測和安全檢測。

壓電感測器和聲波裝置：用於表面聲波 (SAW) 濾波器和微機電系統 (MEMS) 中的壓電層。

半導體和光電器件

紫外光電探測器：利用其寬帶隙特性，用於紫外光探測和成像。

發光裝置：可用於紫外線LED和雷射結構的功能層。