钼靶：专用于溅射镀膜
高温稳定性和力学性能
超高熔点：2623°C，可在高温溅射环境（300~800°C）中保持结构稳定性，具有很强的抗热变形能力；
高温强度：在高温下仍保持较高的硬度和抗蠕变性，确保目标材料在长期加工过程中不会开裂或变形；
热膨胀系数（4.8×10⁻⁶/K）：与硅和玻璃基板具有良好的热兼容性，可减少薄膜热应力引起的分层或开裂；
导电性和热管理性能
高导电性：提高溅射效率并降低工艺能耗；
高导热性：快速传导溅射热量，防止因局部过热导致靶材开裂或液滴飞溅，并确保薄膜层的均匀性；
薄膜沉积特性
溅射速率低：需要高功率激发，但沉积膜层致密，粘附力强；
高密度：减少溅射过程中的孔隙和缺陷，提高薄膜纯度和致密性；
可控晶粒尺寸：通过工艺优化实现细晶粒结构，减少溅射颗粒，改善薄膜层表面光洁度；
化学稳定性和多功能性
化学稳定性和多功能性
耐腐蚀性：耐大多数酸、碱和工艺气体（如 O₂、N₂），适用于反应溅射（如沉积 MoO₃、MoN）；
氧亲和力低：高温下不易氧化，保持高纯度金属膜的特性（需要控制腔体内的氧含量）；
描述2
半导体制造和平板显示器
互连和栅极材料：用于沉积 Mo/MoN 阻挡层；
接触层：作为OLED显示器TFT背板中的源/漏电极；
TFT阵列电极：沉积Mo/Al/Mo堆叠结构；
透明导电薄膜（TCO）支撑层：钙钛矿太阳能电池的钼背电极；
新能源和光学器件
薄膜太阳能电池：CIGS（铜铟镓硒）电池的背电极材料；
红外镜：利用钼的高红外反射率制成的光学器件。
红外镜：利用钼的高红外反射率制成的光学器件。
描述2
