Categorías de produtos

Produtos destacados

Obxectivo de tungsteno de alta pureza de 300 mm de ancho

Obxectivo de aliaxe de titanio e tungsteno 300 mm Obxectivo WTi

Obxectivo WSi fiable de 300 mm para un rendemento mellorado

Obxectivo de Cr de alta pureza de 300 mm para aplicacións de precisión

Liga de ferro, cobalto e tántalo, FeCoTa

Obxectivo da aliaxe de MoSi: excelente uniformidade da película

Obxectivo da aliaxe MoTi: material do núcleo para revestimento duro

Obxectivo de aliaxe CrSi: personalizable segundo diferentes especificacións

Obxectivo de molibdeno: usado especificamente para o revestimento por pulverización catódica

Obxectivo de carburo de boro: especial para PVD

0102030405

Obxectivo de molibdeno: usado especificamente para o revestimento por pulverización catódica

O material diana de Mo está feito de molibdeno metálico de alta pureza mediante metalurxia en po, prensado térmico ou isostático, ou procesos de fusión e colada. Está deseñado especificamente para o seu uso como material catódico en deposición física de vapor, revestimento por pulverización catódica e outros procesos similares. Dentro da cámara de baleiro, os átomos de molibdeno son pulverizados e depositados na superficie do substrato mediante bombardeo iónico, formando unha capa de película fina funcional.

Contacta connosco

Características

Estabilidade a altas temperaturas e propiedades mecánicas

Punto de fusión ultraalto: 2623 °C, o que pode manter a estabilidade estrutural nun ambiente de pulverización catódica de alta temperatura (300~800 °C) e ten unha forte resistencia á deformación térmica;

Resistencia a altas temperaturas: mantén unha alta dureza e resistencia á fluencia a altas temperaturas, o que garante que o material obxectivo non se rache nin se deforme durante os procesos a longo prazo;

Coeficiente de expansión térmica (4,8 × 10⁻⁶/K): Boa compatibilidade térmica con substratos de silicio e vidro, o que reduce a delaminación ou a formación de gretas causadas pola tensión térmica da película;

Conductividade e rendemento da xestión térmica

Alta condutividade: mellora a eficiencia da pulverización catódica e reduce o consumo de enerxía do proceso;

Alta condutividade térmica: conduce rapidamente a calor de pulverización catódica para evitar que o obxectivo se rache ou salpique gotas causadas polo sobrequecemento local e garante a uniformidade da capa de película;

Características da deposición de película fina

Baixa taxa de pulverización catódica: requírese unha excitación de alta potencia, pero a capa de película sedimentaria é densa e a adhesión é forte;

Alta densidade: reduce a porosidade e os defectos durante a pulverización catódica, mellora a pureza e a compacidade da película;

Tamaño de gran controlable: Conseguir unha estrutura de gran fino mediante a optimización do proceso, reducir as partículas de pulverización catódica e mellorar o acabado superficial da capa de película;

Estabilidade química e multifuncionalidade

Resistencia á corrosión: Resistente á maioría dos ácidos, álcalis e gases de proceso (como O₂, N₂), axeitado para pulverización catódica reactiva (como MoO₃, MoN depositados);

Baixa afinidade polo osíxeno: non é doado oxidar a alta temperatura, mantén as características da película metálica de alta pureza (necesidade de controlar o contido de osíxeno da cavidade);

descrición2

Aplicación

Fabricación de semicondutores e pantallas planas

Materiais de interconexión e porta: para depositar capas de barreira de Mo/MoN;

Capa de contacto: como eléctrodo de fonte/dreno no plano posterior TFT da pantalla OLED;

Electrodo de matriz TFT: estrutura apilada de Mo/Al/Mo depositada;

Capa de soporte de película condutora transparente (TCO): eléctrodo posterior de Mo para células solares de perovskita;

Novas enerxías e dispositivos ópticos

Células solares de película fina: o material do eléctrodo traseiro das células CIGS (seleniuro de cobre, indio e galio);
Espellos infravermellos: dispositivos ópticos fabricados utilizando a alta reflectividade infravermella do molibdeno.

descrición2

Coleccións de parámetros de materiais de aliaxe_Mo (versión en inglés)