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Molybdän-Target: speziell für die Sputterbeschichtung verwendet

Das Mo-Targetmaterial wird aus hochreinem Molybdänmetall mittels Pulvermetallurgie, thermischem oder isostatischem Pressen oder Schmelz- und Gießverfahren hergestellt. Es ist speziell für den Einsatz als Kathodenmaterial bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD), dem Sputtern und ähnlichen Verfahren konzipiert. In der Vakuumkammer werden Molybdänatome durch Ionenbeschuss auf die Substratoberfläche gesputtert und abgeschieden, wodurch eine funktionelle Dünnschicht entsteht.

    Hochtemperaturstabilität und mechanische Eigenschaften

    Extrem hoher Schmelzpunkt: 2623°C, wodurch die strukturelle Stabilität in einer Hochtemperatur-Sputterumgebung (300~800°C) erhalten bleibt und eine hohe Beständigkeit gegen thermische Verformung besteht;

    Hochtemperaturfestigkeit: Es behält auch bei hohen Temperaturen seine hohe Härte und Kriechfestigkeit bei, wodurch sichergestellt wird, dass das Zielmaterial bei Langzeitprozessen nicht reißt oder sich verformt;

    Wärmeausdehnungskoeffizient (4,8×10⁻⁶/K): Gute thermische Verträglichkeit mit Silizium- und Glassubstraten, wodurch Delamination oder Rissbildung durch thermische Spannungen im Film reduziert werden;


    Leitfähigkeit und Wärmemanagementleistung

    Hohe Leitfähigkeit: Verbesserung der Sputtereffizienz und Reduzierung des Energieverbrauchs im Prozess;

    Hohe Wärmeleitfähigkeit: leitet die Sputterwärme schnell ab, um Risse im Target oder Tropfenbildung durch lokale Überhitzung zu verhindern und die Gleichmäßigkeit der Filmschicht zu gewährleisten;


    Charakteristika der Dünnschichtabscheidung

    Niedrige Sputterrate: Hohe Anregungsleistung ist erforderlich, aber die Sedimentfilmschicht ist dicht und die Haftung stark;

    Hohe Dichte: Verringerung der Porosität und von Defekten beim Sputtern, Verbesserung der Filmreinheit und Kompaktheit;

    Kontrollierbare Korngröße: Durch Prozessoptimierung wird eine feine Kornstruktur erreicht, Sputterpartikel werden reduziert und die Oberflächengüte der Filmschicht verbessert;

    Chemische Stabilität und Multifunktionalität

    Korrosionsbeständigkeit: Beständig gegen die meisten Säuren, Laugen und Prozessgase (wie O₂, N₂), geeignet für reaktives Sputtern (wie z. B. abgeschiedenes MoO₃, MoN);

    Niedrige Sauerstoffaffinität: oxidiert nicht leicht bei hohen Temperaturen, erhält die Eigenschaften des hochreinen Metallfilms (der Sauerstoffgehalt des Hohlraums muss kontrolliert werden);

    Beschreibung2

    Halbleiterfertigung und Flachbildschirme

    Verbindungs- und Gate-Materialien: für die Abscheidung von Mo/MoN-Sperrschichten;
    Kontaktschicht: als Source-/Drain-Elektrode in der TFT-Rückwandplatine des OLED-Displays;
    TFT-Array-Elektrode: abgeschiedene Mo/Al/Mo-Schichtstruktur;
    Transparente leitfähige Filmträgerschicht (TCO): Mo-Rückelektrode für Perowskit-Solarzellen;

    Neue Energie- und optische Geräte

    Dünnschichtsolarzellen: Das Rückelektrodenmaterial von CIGS-Zellen (Kupfer-Indium-Gallium-Selenid);
    Infrarotspiegel: Optische Geräte, die die hohe Infrarotreflexion von Molybdän nutzen.


    Beschreibung2

    Legierungsmaterialparameter-Sammlungen_Mo (Englische Version)